编辑完成后,展示给华光总工:
“总工,近轴光源照射到掩模后发生衍射的规律,可以用这个方程表达!”
asθ2=2na(1+σ)2na(+1)na
!!!
华光总工看到了这个表达方程!
这么快——
他竟然这么快就编辑出了衍射表达方程?!
华光总工又仔细看了一遍方程,却发现自己也无法全然理解。
不可能——这肯定是他信手乱写的!
华光总工投来怀疑的目光:“苏总工,这个方程看起来很奇怪,而且,没有经过光刻机对焦系统程序验证,恐怕暂时无法采用。”
苏晨:“我们现在就可以将方程输入光刻机对焦系统程序进行验证!”
!!!
当场验证方程!
华光总工将目光投向了任维中,意在征求他的意见。
任维中:“好,按苏总工的想法办,咱们输入程序验证一下。”
任董发话了,工程师们便忙碌了起来,迅速调整好设备。
华光将苏晨编辑的方程,输入到光刻机对焦程序中。
!!!
奇迹出现了——
对焦系统中,入射光的复振幅、光束光场分布、图形弥散斑半径……所有的数据,竟然完全与苏晨编辑的方程逻辑相藕合!!
全场震惊!!
“难道……难道说近轴照明的衍射方程找到了?!”
“如此一来,入射光束和输出光束岂不都能实现强分布?”
“如果真能顺利采用近轴照明的话,那么相移掩模和光瞳滤波两种分辨力增强技术就成功在望了!”