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第839章 最后的战役（二）（第2页）

郑韩好奇道。

“有EUV光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有EUV光刻机也无妨，有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔？”

顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”

“还有良率。”

“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”

领导们来回分析，议论纷纷。

陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。”

“比如呢？”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”

陆飞直说道：“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给AMSL、尼康，但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了DUV浸润式的物镜系统，至于EUV的，恐怕需要很长一段时间。”

“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？”

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郑韩皱了皱眉。

“肯定会，但好在情况并不糟糕。”

陆飞笑道：“虽然5nm是目前我们的极限，理论上而言，台积电、英特尔、三星这些有EUV光刻机的，制程工艺甚至可以冲击到1nm，但得到的回报并不会太高。”

不少领导感到奇怪，“为什么这么说？制程工艺难道不是越先进越好嘛？”

“理论上是这样，但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势，搭载5nm芯片的手机体验，未必就不如3nm，就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步，飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

陆飞嘿然一笑，“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流，特别是我们国内绝大部份的芯片需求，所以有了国产的DUV浸润式光刻机，基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子，也能保证支撑到我们研发出EUV光刻机的那一天。”

众人两两相望，相视一笑。

确实，28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。