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第839章 最后的战役(二)(第2页)

郑韩好奇道。

“有EUV光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有EUV光刻机也无妨,有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔?”

顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”

“还有良率。”

“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”

领导们来回分析,议论纷纷。

陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”

“比如呢?”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”

陆飞直说道:“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给AMSL、尼康,但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了DUV浸润式的物镜系统,至于EUV的,恐怕需要很长一段时间。”

“那这期间,复芯、中芯的晶圆代工,有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大?”

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郑韩皱了皱眉。

“肯定会,但好在情况并不糟糕。”

陆飞笑道:“虽然5nm是目前我们的极限,理论上而言,台积电、英特尔、三星这些有EUV光刻机的,制程工艺甚至可以冲击到1nm,但得到的回报并不会太高。”

不少领导感到奇怪,“为什么这么说?制程工艺难道不是越先进越好嘛?”

“理论上是这样,但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势,搭载5nm芯片的手机体验,未必就不如3nm,就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步,飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

陆飞嘿然一笑,“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流,特别是我们国内绝大部份的芯片需求,所以有了国产的DUV浸润式光刻机,基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子,也能保证支撑到我们研发出EUV光刻机的那一天。”

众人两两相望,相视一笑。

确实,28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。

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